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PECVD設備

應用於邏輯和存儲晶片製造

腾博会官网上海的等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）設備可應用於SiO2, SiNx, Carbon ，NDC薄膜沉積工藝 ， 未來可以擴展至單片式PEALD薄膜沉積工藝進行平台化擴展 。