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2025-11-17 8:01:00


该系统采用ACM专利申请保护的水平电镀技术,并支持铜、镍、锡银及金等多材质电镀工艺。其中,铜电镀腔体配备了专为高凸柱应用设计的高速电镀桨叶,能够实现超过300微米的凸柱高度。Ultra ECP ap-p设备采用四边密封干式接触卡盘以提升可靠性,配备电镀腔内清洗功能以最大限度减少不同电镀腔之间的化学交叉污染,并采用水平电镀设计——顺利获得同步旋转卡盘与旋转矩形电场实现卓越的膜厚均匀性。